產品信息：

? 可根據需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤

? 操作方面，數字顯示，帶背景燈

? 800W的加熱能力，快速加熱     

? 轉速zui大可達到14，000rpm

? 強大磁力，輕松驅動攪拌子

? zui多可攪拌20L水

? 免維護的發(fā)動機，啟動順暢

? 溫度調節(jié)精度可至±1℃

? 高效率驅動，低效率消耗

? 包裹防腐蝕材料的硅合金機身，持久耐用

加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

高安全性能

? 800Ｗ加熱功率 （600 W 于 115/100 V）

?加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

?優(yōu)秀的熱傳導效率和分配性能

?優(yōu)秀的防刮花和抗化學腐蝕性能

?加熱盤直徑: 145 mm

?通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能

?預設溫差△T, 當溫度偏離控制溫度達到預設定的溫度差時

?獨立線路開關自動停止加熱

?*避免錯誤的溫度設定

?速度范圍: 30 - 1,400 rpm

?出眾的溫度控制精度: ±1 %

?數字顯示速度和溫度（包括設定值和實際值）

?加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C 

?介質溫度范圍:zui高 250     

?精確溫度設定：±1K    

?當停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量

?照明開關

?三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命

?電子轉速限制, 保護發(fā)動機

?加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉

?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）   

加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec[]

適用于更高實驗要求

MR Hei-Tec

?800 W加熱功率 （600 W 于 115/100 V）

?數字顯示設定溫度和實際溫度

?加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C

?介質溫度范圍: zui高達 250°C

?速度范圍: 100 - 1,400 rpm

?速度控制精度:±2 %

?通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  

?當溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關自動停止加熱

?照明開關

?電子溫度控制

（選配 EKT Hei-Con）

?精確溫度設定:   ±1K 

（選配 EKT Hei-Con）

?介質溫度控制精度: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

?三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命

?電子轉速限制, 保護發(fā)動機

?加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉

?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）

MR Hei-Tec

?加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

-          優(yōu)秀的熱傳導效率和分配性能

-          優(yōu)秀的防刮花和抗化學腐蝕性能

?加熱盤直徑: 145 mm

MR Hei-Tec [ ]

?與 MR Hei-Tec 參數*

?正方形加熱盤

?加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成

?加熱盤尺寸 w x d （mm）: 132 x 132

加熱型磁力攪拌器MR Standard

適用于任何實驗室的標準攪拌器

MR Hei-Standard

? 800 W 加熱功率 （600 W 于 115/100 V）

?加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C

?介質溫度范圍: zui高達 250°C

?速度范圍: 100 - 1,400 rpm

?速度控制精度:±2 %

?加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

-          優(yōu)秀的熱傳導效率和分配性能

-          優(yōu)秀的防刮花和抗化學腐蝕性能

?加熱盤直徑: 145 mm

?通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  

?當溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關自動停止加熱

?電子溫度控制

（選配 EKT Hei-Con）

?精確溫度設定:   ±1K 

（選配 EKT Hei-Con）

?介質溫度控制精度: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

?三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命

?電子轉速限制, 保護發(fā)動機

?加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉

?優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）

磁力攪拌器MR Mix D/L/S

攪拌單功能

MR Hei-Mix D

?數字顯示，電子速度控制

?速度范圍: 100 - 1,400 rpm

?速度控制精度:±2 %

?加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉

?加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 （V2A）

?加熱盤直徑: 145 mm

?延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤

?推薦用于細胞生物學實驗室MR Hei-Mix L

?與MR Hei-Mix D參數*, 無數字顯示MR Hei-Mix S

?白色, 抗化學腐蝕 PVDF 加熱盤

?特別推薦用于滴定

?加熱盤直徑: 105 mm

?電子速度控制，無數字顯示

?大范圍速度設定: 0 - 2,200 rpm

?機身: 抗化學腐蝕材料聚氨酯

?zui小的空間需要:

126 ×80×140 mm （w × h × d）